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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-KT-224
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクレス、直接描画)
設備名 レーザー直接描画装置
(Laser Pattern Generator)
地域 近畿
設置機関 京都大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 京大ナノハブ
仕様

(株)日本レーザー社製   DWL2000

  • 最大基板サイズ 200×200m㎡ 
  • 最小描画サイズ 0.6μm 
  • グレースケール露光対応
  • 描画データ入力フォーマット
     DXF,CIF,GDSll,Gerber,BMP,Ascii,STL
F-KT-224

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