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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-IT-152
分類 合成、熱処理、ドーピング > 酸化、拡散、イオン注入
設備名 化合物半導体光素子用酸化炉
(Oxidation furnace for compound semiconductor optical devices)
地域 関東
設置機関 東京工業大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

最大温度500C(プログラム温調可) 基板サイズ最大2インチ

F-IT-152

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