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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-IT-149
分類 成膜・膜堆積 > CVD(化学気相成長)、有機膜
設備名 プラズマCVD装置
(Plasma CVD)
地域 関東
設置機関 東京工業大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

シリコン窒化膜/アモルファスシリコンの成膜  住友精密工業  
Multiplex-CVD  

F-IT-149

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