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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-IT-143
分類 膜加工・エッチング > ウエット/ガスエッチング,洗浄
設備名 ウェハ洗浄装置
(Wafer Cleaning System)
地域 関東
設置機関 東京工業大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

EVG EVG301

  • PVA製スポンジブラシ洗浄  
  • メガソニック洗浄(最大振動子出力:40 W) 
  • 対応基板サイズ:2インチウェハ/2 cm×2 cm角/3 cm×3 cm角
F-IT-143

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