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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-IT-140
分類 成膜・膜堆積 > スパッタリング
設備名 スパッタ成膜装置
(Sputter Deposition System)
地域 関東
設置機関 東京工業大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

ケーサイエンス製  電極用スパッタ成膜装置

  • Arガス利用
  • Ti, W, TiW電極の成膜可能
  • ロードロックチャンバ付き
  • 成膜レート ~3nm/min
F-IT-140

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