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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-IT-133
分類 成膜・膜堆積 > CVD(化学気相成長)、有機膜
設備名 プラズマCVD 装置
(Plasma CVD)
地域 関東
設置機関 東京工業大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

シリコン酸化膜  サムコPD-240 1

  • 反応器:  SUS304製  内径  340mm
  • 基板加熱機構:抵抗加熱方式  MAX 400℃
  • 高周波電源:  MAX 300W、13.56 MHz、水晶制御式
  • 使用ガス: TEOS、O2、CF4
F-IT-133

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