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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-IT-127
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
設備名 コンタクト光学露光装置
(Contact Optical Lithography System)
地域 関東
設置機関 東京工業大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

Süss MA-8
・アシスト機能装備、TSA/BSA装備                                
・表面アライメント制度  TSA:±0.25um以下  BSA:±1.00um以下
・露光解像度  0.5um                                              
・対応基板  小片角~直径2inch ウェハ

F-IT-127

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