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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-IT-124
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 電子線描画(EB)
設備名 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・ホットプレート・オーブン等を含む)
(Electron beam lithography System (including spin coater, hot plate, oven etc.))
地域 関東
設置機関 東京工業大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

JEOL JBX-6300SJ
スポットビーム、ベクタースキャン方式。
ビーム径3nm以下(100kV)、最少線幅8nm以下。
重ね合わせ精度3nm以下。試料最大150㎜φウエーハ可。

F-IT-124

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