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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-HK-008
分類 成膜・膜堆積 > スパッタリング
設備名 ヘリコンスパッタリング装置
(Helicon sputtering system)
地域 北海道
設置機関 北海道大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテク連携研究推進室
仕様

アルバック社製:MPS-4000C1/HC1
    試料種類:3元、Au,Ag,Cr,Ti,SiO2
    試料サイズ:最大4インチ

F-HK-008

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