文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-HK-007
分類 成膜・膜堆積 > CVD(化学気相成長)、有機膜
設備名 液体ソースプラズマCVD装置
(Liquid-source plasma CVD system)
地域 北海道
設置機関 北海道大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテク連携研究推進室
仕様

サムコ社製:PD-10C1
    試料種類:SiO2他(ソースについては応相談)
    キャリアガス:N2,He,Ar,H2
    試料サイズ:最大3インチ

 

F-HK-007

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