文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-HK-035
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(その他)
設備名 ICP高密度プラズマエッチング装置
(ICP high-density plasma etching system)
地域 北海道
設置機関 北海道大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテク連携研究推進室
仕様

サムコ社製:RIE-101iHS
    使用ガス:Xe、Ar、O2、SiCl4、Cl2
    試料サイズ:最大4インチ

F-HK-035

この設備に関するお問い合わせ先

本研究設備の詳細や利用方法等は、問い合わせフォームよりお問い合わせください。

設置機関Webサイト 設置機関Webサイト   この設備について問い合わせる この設備について問い合わせる(設置機関への問い合わせフォーム)