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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-HK-034
分類 成膜・膜堆積 > スパッタリング
設備名 コンパクトスパッタ装置
(Compact sputtering system )
地域 北海道
設置機関 北海道大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテク連携研究推進室
仕様

アルバック製:ACS-4000-C3-HS
試料種類:SiO2、Au、Cr等
基板サイズ:10mm~4インチ(リフトオフ仕様では25mm角まで)
基板加熱機構有り(~550℃)

F-HK-034

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