文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-HK-032
分類 形状・形態観察、分析 > 膜厚・段差・粗さ測定
その他材料評価 > 膜厚測定装置(エリプソメーター)
設備名 エリプソメータ
(Ellipsometer)
地域 北海道
設置機関 北海道大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテク連携研究推進室
仕様

日本分光社製  M-500S
(Xe光源    測定波長:350~800nm    試料水平置き)

F-HK-032

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