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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-HK-024
分類 成膜・膜堆積 > 原子層堆積(ALD)
設備名 ALD製膜装置
(ALD system)
地域 北海道
設置機関 北海道大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテク連携研究推進室
仕様

Cambride NanoTech社製:Savannah 100
    成膜材料:HfO2, Al2O3, ZrO2
    試料サイズ:最大4インチ

F-HK-024

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