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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-HK-023
分類 成膜・膜堆積 > スパッタリング
設備名 超高真空5源ヘリコンスパッタ
(Ultra-high vacuum helicon sputtering system )
地域 北海道
設置機関 北海道大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテク連携研究推進室
仕様

菅製作所:Av028
    試料種類:Cu、Ta、FeNi、IrMn、CoFe
    試料サイズ:1インチ x 1インチ

F-HK-023

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