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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-HK-022
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(その他)
設備名 ICP加工装置
(ICP processor)
地域 北海道
設置機関 北海道大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテク連携研究推進室
仕様

エリオニクス社製:EIS-700
    使用ガス:CF4、O2、Ar
    試料サイズ:20mm角4枚

F-HK-022

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