文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-HK-020
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
設備名 両面マスクアライナ
(Double-side alignment Mask aligner)
地域 北海道
設置機関 北海道大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテク連携研究推進室
仕様

ズースマイクロテック社製:MA-6
    両面、露光精度0.6ミクロン
    マスクサイズ:最大7インチ
    試料サイズ:最大6インチ

F-HK-020

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