文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-HK-002
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 電子線描画(EB)
設備名 超高精度電子ビーム描画装置
(Ultra-high precision electron-beam lithography system (Elionix ELS-7000HM))
地域 北海道
設置機関 北海道大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテク連携研究推進室
仕様

エリオニクス社製:ELS-7000HM
    加速電圧:100kV
    試料サイズ:最大6インチ

F-HK-002

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