文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-HK-016
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
膜加工・エッチング > アッシング・キュア
設備名 真空紫外露光装置
(Vacuum ultraviolet light exposure system)
地域 北海道
設置機関 北海道大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテク連携研究推進室
仕様

エヌ工房:フォトクリエーターPC-01-H
    試料サイズ:最大1インチ

F-HK-016

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