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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-HK-014
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(RIE)
設備名 ドライエッチング装置
(Dry etching system (Ulvac:NLD-500))
地域 北海道
設置機関 北海道大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテク連携研究推進室
仕様

アルバック社製:NLD-500
    使用ガス:SF6、C4F8、CF4、CHF3、Ar、O2、C3F8
    試料サイズ:最大4インチ

F-HK-014

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