文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-HK-010
分類 成膜・膜堆積 > 原子層堆積(ALD)
設備名 原子層堆積装置
(Atomic layer deposition system)
地域 北海道
設置機関 北海道大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 ナノテク連携研究推進室
仕様

ピコサン社製:SUNALE-R
    試料種類:SiO2、TiO2、Al2O3、Nb2O5、HfO、ZnO他
    試料サイズ:最大6インチ

 酸化剤としてオゾンの利用可能

F-HK-010

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