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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-GA-339
分類 形状・形態観察、分析 > 膜厚・段差・粗さ測定
設備名 膜厚測定器
(Film thickness measuring system)
地域 四国
設置機関 香川大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

溝尻光学社製エリプソメータ
    DHA-XA/M8
    膜厚と屈折率を測定可能
    処理物:~12インチウェハ
    光源波長:632.8nm(He-Neレーザー)
    入射角:55°~75°,90°
    入射角設定単位:0.01°
    最小分解能:1Å
    分布計測分解能:0.01mm

F-GA-339

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