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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-GA-330
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクレス、直接描画)
設備名 マスクレス露光装置
(Mask-less exposure system)
地域 四国
設置機関 香川大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

大日本科研社製  マスクレス露光装置
  MX-1204
  DMDによるパターン生成露光、
  露光サイズ150mm角、
  最小描画画素1um、
   アライメント精度±0.15um

ミカサ社製スピンコータ-
    1H-DX2

F-GA-330

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