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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-GA-323
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(ECR)
設備名 イオンシャワー
(Ion shower system)
地域 四国
設置機関 香川大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

エリオニクス社製イオンシャワー
    EIS-200ER
    イオン銃:電子サイクロトロン共鳴(ECR)型
    イオン化ガス:
   Ar,Xe,等,不活性イオン種用ガス
   N2,O2,等,活性イオン種用ガス
    加速電圧:30V~3000V連続可変
    イオン流密度:Ar:1mA/cm2以上(2kV加速時)
    イオンビーム有効径:φ20mm
    動作真空度:5.0×10-5~3.0×10-4Torr
    試料寸法:φ4インチMAX(回転機構付き)
    電気的シャッター:加速電圧のON OFF機構

F-GA-323

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