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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-GA-319
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
リソグラフィ・露光・描画装置 > レジスト塗布・現像装置
設備名 マスクアライナ
(Mask aligner system)
地域 四国
設置機関 香川大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

ミカサ社製片面マスクアライナ
    MA-10型
    マスクサイズ:2.5~5インチ
    ウエハサイズ:10mm~80mm
    顕微鏡:双眼実体顕微鏡30倍
    試料台移動範囲:
   前後左右±5mm、上下3mm
   回転、70度
    露光光源:250W超高圧水銀灯

ミカサ社製スピンコータ-
    1H-DX2
    試料サイズ:最大154mmφ1mmt
    回転数:300–7000r.p.m
    回転精度:±1r.p.m
    回転時間:最大999.9sec(合計)
    回転制御:プログラム方式・最大100段入力可

F-GA-319

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