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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-GA-317
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 電子線描画(EB)
リソグラフィ・露光・描画装置 > レジスト塗布・現像装置
設備名 電子線描画装置
(Electron beam lithography system)
地域 四国
設置機関 香川大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

エリオニクス社製電子線描画装置
    ELS-7500EX
    加速電圧:50kV、30kV、20kV
    描画可能な最小線幅:10nm
    フィールドつなぎ精度:40nm
    描画対象:6インチまで対応可能
    所要時間:線幅1μm/2インチウエハ;5~6時間
                  線幅10nm/2インチウエハ;4日間

ミカサ社製スピンコータ-
    1H-DX2
    試料サイズ:最大154mmφ1mmt
    回転数:300–7000r.p.m
    回転精度:±1r.p.m
    回転時間:最大999.9sec(合計)
    回転制御:プログラム方式・最大100段入力可

F-GA-317 F-GA-317

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