文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-FA-378
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
設備名 リソグラフィ装置群
(Double-Sided Mask Aligner)
地域 九州・沖縄
設置機関 北九州産業学術推進機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 半導体・エレクトロニクス技術センター
竹内修三
仕様

18.両面マスクアライナ
【SUSS MicroTec AG:SUSS NA6/BA6(MO)】
手動方式両面アライメント露光
処理枚数:1枚
 コンタクト/プロキシミティ対応
対応マスクサイズ:2.5"□、5"□
光源:超高圧水銀灯(350W)
照度分布:±2.5%以内(150mmΦ)
有効波長:g線、h線、i線
対応試料:1"Φ~4"Φ

F-FA-378

この設備に関するお問い合わせ先

本研究設備の詳細や利用方法等は、問い合わせフォームよりお問い合わせください。

設置機関Webサイト 設置機関Webサイト   この設備について問い合わせる この設備について問い合わせる(設置機関への問い合わせフォーム)