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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-FA-377
分類 膜加工・エッチング > ウエット/ガスエッチング,洗浄
設備名 ケミカルプロセス装置群
(Draft Chamber)
地域 九州・沖縄
設置機関 北九州産業学術推進機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 半導体・エレクトロニクス技術センター
竹内修三
仕様

12.ドラフトチャンバー
【ドラフトチャンバー(ウェットエッチング用局所排気装置)】
SiO2,Si,AI等のエッチング、ウェハ洗浄
処理枚数:1枚
薬品:各種酸(塩ビ)、各種有機溶剤(SUS)
対応試料:不定形~4"Φ

F-FA-377

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