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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-FA-376
分類 合成、熱処理、ドーピング > 熱処理、レーザーアニール
設備名 ケミカルプロセス装置群
(Rapid thermal anneal System)
地域 九州・沖縄
設置機関 北九州産業学術推進機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 半導体・エレクトロニクス技術センター
安藤秀幸
仕様

9.高速熱処理装置
【Allwin 21:AccuThermo AW610】
イオン注入後の活性化処理、Poly-Siのアニール、各種熱処理等
温度制御範囲:100~1100℃
昇温速度:10~150℃/sec
対応試料:不定形~6"Φ

F-FA-376

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