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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-FA-375
分類 膜加工・エッチング > アッシング・キュア
設備名 ケミカルプロセス装置群
(UV-ozone cleaner)
地域 九州・沖縄
設置機関 北九州産業学術推進機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 半導体・エレクトロニクス技術センター
安藤秀幸
仕様

8.UVクリーナー
【samco:UV-1】
Siウェハ上の有機物汚染除去(O3によるアッシング)
処理枚数:1枚
光源:紫外線ランプ(110W)
最高使用温度:300℃
対応試料:不定形~8"Φ

F-FA-375

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