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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-FA-372
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 電子線描画(EB)
設備名 リソグラフィ装置群
(Electron Beam Lithography System)
地域 九州・沖縄
設置機関 北九州産業学術推進機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 半導体・エレクトロニクス技術センター
竹内修三
仕様

10.電子ビーム描画装置
【ELIONIX:ELS-7500】
EBレジスト超微細描画
加工対象:最大5"φウェハまたは5"□試料
描画性能:最小線幅 10nm(50kV)
加速電圧:5~50kV
電子線直径:2nmφ(50kV)
ビーム電流:1E-12~5E-8A(50kV)

F-FA-372

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