文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-FA-367
分類 形状・形態観察、分析 > 膜厚・段差・粗さ測定
分光 > 薄膜用紫外〜赤外反射
設備名 リソグラフィ装置群
(Spectroscopic Reflectometer)
地域 九州・沖縄
設置機関 北九州産業学術推進機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 半導体・エレクトロニクス技術センター
安藤秀幸
仕様

15.膜厚測定器
【大日本スクリーン:VM-1020】
光干渉縞測定による膜厚計測
対応試料:2”Φ~8”Φ
二層膜測定対応
測定データの三次元マッピング
測長・撮影機能有

F-FA-367

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