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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-FA-366
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(ステッパ)
設備名 リソグラフィ装置群
(Stepper)
地域 九州・沖縄
設置機関 北九州産業学術推進機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 半導体・エレクトロニクス技術センター
安藤秀幸
仕様

14.ステッパ
【Ultratech:1500MVS】
紫外線によるパターン転写
露光:投影式ステップリピート
対応試料:2“Φ,4”Φ
対応レチクル:5インチ□
線幅:0.8μm~
位置合せ精度:±0.3μm
焦点深度:3μm

F-FA-366

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