文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-FA-365
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
設備名 リソグラフィ装置群
(Mask Aligner)
地域 九州・沖縄
設置機関 北九州産業学術推進機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 半導体・エレクトロニクス技術センター
竹内修三
仕様

13.マスクアライナー
【SUSS MicroTec:MA6】
紫外線によるパターン転写
露光:コンタクト式露光
対応試料:~4”φ
対応マスク乾板:2.5”□,5”□
両面アライメント可能

F-FA-365

この設備に関するお問い合わせ先

本研究設備の詳細や利用方法等は、問い合わせフォームよりお問い合わせください。

設置機関Webサイト 設置機関Webサイト   この設備について問い合わせる この設備について問い合わせる(設置機関への問い合わせフォーム)