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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-FA-364
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > レジスト塗布・現像装置
設備名 リソグラフィ装置群
(Coater/Developer)
地域 九州・沖縄
設置機関 北九州産業学術推進機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 半導体・エレクトロニクス技術センター
安藤秀幸
仕様

12.コータ/ディベロッパ
【リソテック:CB-50】
フォトレジスト塗布,現像
近接式クーリングプレート×2
近接式ホットプレート×2
レジストコートカップ×1
現像カップ×1
ウェハ搬送アーム×2
対応試料:2”Φ
オート,マニュアル選択可

F-FA-364

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