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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-FA-360
分類 成膜・膜堆積 > CVD(化学気相成長)、有機膜
設備名 ケミカルプロセス装置群
(Low-Pressure CVD)
地域 九州・沖縄
設置機関 北九州産業学術推進機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 半導体・エレクトロニクス技術センター
安藤秀幸
仕様

7.減圧CVD
【samco:LPD-1200】
ポリシリコン堆積
昇温可能範囲:~1100℃
対応試料:
2”Φ×20    4”Φ×25

F-FA-360

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