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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-BA-093
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクレス、直接描画)
設備名 レーザー描画装置
(Laser Drawing System)
地域 関東
設置機関 筑波大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 数理物質エリア支援室 加藤一郎
数理物質エリア支援室 手塚陽子
数理物質エリア支援室 桑原海鷹
仕様

DWL66/Heidelberg instruments社
・ 最小描画サイズ:1 µm
・ 光源:He-Cdレーザー (波長 442 nm)
・ 最大基板サイズ:200 mm x 200 mm
・ 対応フォーマット:DXF, GDSII, Gerber, CIF等

F-BA-093

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