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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-BA-106
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
設備名 微細パターン形成装置群(スピンコーター、マスクアライナー)
(Photolithography system (Mask aligner, Spincoater))
地域 関東
設置機関 筑波大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 数理物質エリア支援室 加藤一郎
数理物質エリア支援室 手塚陽子
数理物質エリア支援室 桑原海鷹
仕様

Neutronix-Quintel社製Q 2001CT(2.5インチマスク用コンタクトアライナー)          

  • マスク-ウエハ間隔;0-180μm
  • 基板;1cm角~4インチφ  マスク;2.5インチ角、5インチ角
  • 光源;200W水銀ランプ(350~450nm)
  • 解像度;0.6~1.0μm
  • マニュアルアライメント;1.0μm 
  • 照度分布;≤5%@3.5インチφ

ミカサ社製MS-A100(スピンコーター)

  • 4インチウェハー又は75mm角対応
  • 100ステップ×10パターン
F-BA-106

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