文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-BA-102
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクレス、直接描画)
設備名 パターン投影リソグラフィシステム
(Maskless Lithography System)
地域 関東
設置機関 筑波大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 数理物質エリア支援室 加藤一郎
数理物質エリア支援室 手塚陽子
数理物質エリア支援室 桑原海鷹
仕様

μPG501/Heidelberg instruments社

  • 描画エリア;125×125mm2
  • 最小描画サイズ;1.0μm
  • 最小アドレッシンググリッド;50nm@1μm
  • 描画スピード;50mm2/min@1μm,100mm2/min@2μm
F-BA-102

この設備に関するお問い合わせ先

本研究設備の詳細や利用方法等は、問い合わせフォームよりお問い合わせください。

設置機関Webサイト 設置機関Webサイト   この設備について問い合わせる この設備について問い合わせる(設置機関への問い合わせフォーム)