文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-AT-097
分類 成膜・膜堆積 > 原子層堆積(ALD)
膜加工・エッチング > ドライエッチング(その他)
設備名 原子層堆積装置
(Atomic Layer Deposition System; ALD)
地域 関東
設置機関 産業技術総合研究所
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 共用施設ステーション
仕様

オックスフォードインストゥルメンツ社製FlexAL型

  • 金属や半導体、誘電体材料のナノ薄膜の作製に用いる装置です。
  • モデル名はFlexAL です。
  • 基板は8”φまでのサイズに対応します。
  • Al2O3, SiO2, HfO2, ZnO, TiO2, SiN他のALD成膜が可能です。
  • これまでに報告されたALD装置の応用例は、
  1. 銅配線の拡散防止膜、銅めっきシード層、
  2. 高効率太陽電池、
  3. 有機EL、EL、有機トランジスタデバイスのH2O、O2の拡散を止める封止膜、
  4. DRAMキャパシタ、
  5. 高誘電率ゲート絶縁膜など、多数あります

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付帯してミリング機能があります

加速電圧:0~6 kV
最大ミリングレート:約2 μm/hr (フラットミリング)
最大試料サイズ Φ50 X 25(H) mm

走査型電子顕微鏡(SEM)や走査型プローブ顕微鏡の断面試料作製に利用できます。予め鏡面研磨したサンプルにフラットミリングをかけることで、浅く残った研磨痕やダレの除去を行うことができます。

F-AT-097 F-AT-097

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