文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-AT-092
分類 膜加工・エッチング > アッシング・キュア
設備名 プラズマアッシャー
(Plasma Asher)
地域 関東
設置機関 産業技術総合研究所
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 共用施設ステーション
仕様

ヤマト社製 PR500型、最大4インチ

この装置は、石英チャンバー内で酸素プラズマを発生させることにより、有機物のフォトレジストをCO2とH2Oに分解・酸化させて除去するものです。

  • 型式:PR500 
  • 高周波電源:最大500W 
  • 反応槽:石英チャンバーΦ215 mm×305 mm(高さ)
  • 放電時間設定:0.1秒~999時間
  • 使用ガス:O2、パージ用N2ガス
F-AT-092

この設備に関するお問い合わせ先

本研究設備の詳細や利用方法等は、問い合わせフォームよりお問い合わせください。

設置機関Webサイト 設置機関Webサイト   この設備について問い合わせる この設備について問い合わせる(設置機関への問い合わせフォーム)