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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-AT-091
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクレス、直接描画)
設備名 マスクレス露光装置
(Maskless Lithography System)
地域 関東
設置機関 産業技術総合研究所
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 共用施設ステーション
仕様

ナノシステムソリューション社製

露光パターン発生用の空間光変調器にDMD(Digital Micromirror Device)を用いたマスクレス方式の露光装置です。フォトマスクを使用せずに、CADデータ(GDSII形式)にした任意の形状を基板上のフォトレジストに直接パターニングすることができます。光源は波長405nmのLEDです。露光最小画素は□1μm、最大露光領域は□100mm、重ね合わせ精度は±1 μmです。

F-AT-091

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