文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-AT-086
分類 形状・形態観察、分析 > 膜厚・段差・粗さ測定
その他材料評価 > 膜厚測定装置(エリプソメーター)
設備名 分光エリプソメータ
(Spectroscopic Ellipsometer)
地域 関東
設置機関 産業技術総合研究所
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 共用施設ステーション
仕様

この分光エリプソメーター装置は、190~826nm(1.5~6.5eV)の波長範囲における入射光と反射光の偏光状態の変化を測定し、解析作業を行うことで、薄膜の膜厚や屈折率、消衰係数を求めることが出来ます。5μmまでの比較的厚い膜厚(但し金属膜は除く)や薄膜の多層構造測定も可能です。堀場ジョバンイボン社から提供される多数の分散式を保有しおり、様々な物質の解析作業が可能です。サンプルステージの径は150mm、上下調整可能幅は20mmとなっており、幅広いサンプル形状に対応できるようになっております。また、ユーザーフレンドリーな操作マニュアルや解析事例集を完備しており、エリプソメーターを初めて使う方でも比較的簡単に本装置を使用することが出来ます。

F-AT-086

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