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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-AT-077
分類 合成、熱処理、ドーピング > 熱処理、レーザーアニール
設備名 高速昇降温炉
(Rapid Thermal Annealing Furnace)
地域 関東
設置機関 産業技術総合研究所
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 共用施設ステーション
仕様

アルバック理工製  Pss/85#/7089_1型

赤外線ランプとゴールドミラー集光機構を備えた高速昇温可能な加熱装置です。試料は、石英管内の3インチカーボンサセプタに乗せ、真空又は、不活性ガス(Ar, N2)雰囲気による加熱が行えます。プログラムコントローラによる昇降温レート、加熱時間のコントロールが可能です。

  • 温度範囲:100 ~ 1000℃(801℃以上時間制限有り)
  • 雰囲気:真空、不活性ガスフロー(Ar, N2
  • 試料ステージ:3インチウェーハ 1枚平置き用カーボンサセプタ
    (SiCコート)
  • 加熱制御方式:マイクロコンピュータデジタルメモリー方式
    (最大99ステップ)
  • 最大加熱速度:20℃/sec
    (実力値、若干のオーバーシュートを伴います)
  • 均熱ゾーン:3インチ (Ф75 mm)
  • 均熱精度:±10℃ @ 800℃
  • 温度制御:カーボンサセプタ埋め込みK熱電対によるフィードバックPID制御
  • 到達真空度:10-3 Pa 台  (TMP使用時)
F-AT-077

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