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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-AT-075
分類 成膜・膜堆積 > 蒸着(抵抗加熱、電子線)
設備名 真空蒸着装置
(Vacuum Evaporator)
地域 関東
設置機関 産業技術総合研究所
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 共用施設ステーション
仕様

エイコーエンジニアリング社製電子ビーム加熱型蒸着装置

高真空中で金属や化合物などの成膜材料へ電子ビームを照射し、発生した蒸発物を基板上に付着堆積させることにより成膜します。20種類以上の蒸着源をそろえており、電子ビーム加熱方式のため高融点材料の蒸着も可能です。操作が自動化されており、成膜シークェンスを組むことで最大8種までの材料の多層膜を作製する事ができます。フォトリソグラフィと合わせ、2層レジストを用いたリフトオフも可能です。

  • 蒸着方式:電子ビーム加熱蒸発、180°配向型、5 kW電子銃 
  • 蒸発源:8連装 
  • クルーシブル容量:10 ml 
  • 基板ホルダ:最大基板サイズ100 mm×100 mm×20 mm、傾斜ホルダ、冷却機構付
    (通常:水冷  *液体窒素使用時最低温度130 K)
  • 蒸発源―基板間:300 mm 
  • 試料導入:ロードロック自動搬送 
  • 真空排気システム:到達圧力3×10^-6 Pa以下、オイルフリー、自動排気 
  • 成膜:水晶振動子膜厚モニタによる自動制御 
  • 膜厚分布:10 %以内@Φ75mm
F-AT-075

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