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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-AT-073
分類 成膜・膜堆積 > スパッタリング
設備名 スパッタ装置
(Sputter deposition System)
地域 関東
設置機関 産業技術総合研究所
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 共用施設ステーション
仕様

芝浦メカトロニクス製CFS-4EP-LL型
  ロードロック付RFマグネトロン・サイドスパッタ方式

  •   スパッタ源:3台セット
    (内1台は強磁性材料用としてマグネットを強化改造)
  •     基板加熱:最大300℃
  •     基板エッチング(逆スパ):可
  •     基板サイズ:最大 φ200、10mmt
  •     常備ターゲット数:約60
F-AT-073

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