文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-AT-070
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(RIE)
設備名 反応性イオンエッチング装置
(Reactive Ion Eching Machine)
地域 関東
設置機関 産業技術総合研究所
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 共用施設ステーション
仕様

平行平板型カソードカップル方式のプラズマエッチング装置です。
エッチングガスとしてSF6,CF4,O2を使用することができます。
サンプルサイズは最大Φ8インチまで投入可能となっており、投入サンプルは搬送ロボットによりロードロック室からプロセス室へ自動搬送されます。
シリコン、二酸化シリコン、チタン等の材料に対しての標準エッチングレシピを完備しており、装置トレーニング後すぐに御利用頂くことが出来ます。

F-AT-070

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