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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-AT-068
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 電子線描画(EB)
設備名 電子ビーム描画装置
(Electron Beam Writer)
地域 関東
設置機関 産業技術総合研究所
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 共用施設ステーション
仕様

クレステック社製 CABLE_9410TFNA型

  • ZrO/W熱電界放射型電子銃
  • 加速電圧50kV
  • ビーム電流0.1nA(デフォルト値)
  • 描画可能な最小線幅10nm(レジスト膜厚100nmのとき)
  • 試料寸法150mm×150mm(最大)
  • ビーム走査範囲1mm□(最大)
  • ステップ&リピート方式のつなぎ合わせで走査範囲を広げる
  • 手動操作による重ね合わせ精度50nm以下
  • XY方向ステージ制御レーザー干渉測長精度0.6nm
  • Z方向はハイトセンサーによる帰還制御
  • 環境制御あり
F-AT-068

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