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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-AT-135
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 電子線描画(EB)
設備名 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
(Electron Beam Lithography System (Elionics))
地域 関東
設置機関 産業技術総合研究所
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 共用施設ステーション
仕様

本装置は細く絞った電子ビームをレジストを塗布した基板に照射し、微細な加工(描画)を行うための装置です。加速電圧が130kVであるため非常に微細なパターン(5 nm)を描画することができます。クロック周波数が100 MHzであるため、高速描画が可能です。描画エリアは8インチサイズですが、12インチウエハーをセットすることが可能です。

〇型番:ELS-F130AN

〇電  子  銃 ZrO/W熱電界放射型

〇加 速 電 圧 130kV, 100kV, 50kV, 25kV

〇最小ビーム径    1.7nm (@ 130kV)

〇最小描画線幅    5nm (@ 130kV)

〇最大スキャンクロック 100MHz

〇ビーム電流強度    5pA~100nA

〇フィールドサイズ □100μm、□250μm、□500μm

     □1000μm (100kV以下)

     □1500μm(50kV以下)

  □3000μm (25kV以下)

〇ビームポジション   1,000,000×1,000,000 (20bit DAC)

〇位置決め分解能    0.1nm

〇つなぎ精度 ±10nm

〇重ねあわせ精度 ±15nm

〇描画可能エリア 210mm×210mm

〇最大試料サイズ 12インチΦウェハー又は9インチ□マスク

F-AT-135

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