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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-AT-113
分類 成膜・膜堆積 > めっき
設備名 メッキ装置
(Plating Equipment)
地域 関東
設置機関 産業技術総合研究所
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 共用施設ステーション
仕様

株式会社山本鍍金試験器製
2inch、4inchシリコンウエハ対応の小型めっき装置です。濾過や加熱、エアー撹拌を行いながらのめっきが可能です。微細配線やパンプ用の無光沢銅めっきが行えます。また通常のスルーホールめっきにも使用出来ます。電源は最大電流10Aに対して、最小分解能が1mAの高性能なプログラマブル電源です。

  • 水槽:4inchシリコンウエハ用 アクリル製二重底タイプ、浴容量 4L
  • ヒーター:ウエハ水槽用ヒーター 100V,100W
  • 陽極板:含燐銅
  • 濾過器:ミニミニフィルター20APFA型(PTFEチューブ/4.8 (dm3/min.)/0.5umカートリッジタイプ)
  • 揺動装置:4inch用パドル撹拌装置(回転数表示式)
  • 電源:入力電圧 AC100~200V±10%(50/60Hz±5%)
     出力電圧 DC 0~15V
     出力電流 0~10A
     最小分解能 10mV,1mA,0.1mC
     温度調整機能 1KW(ON/OFF PID制御)
  • めっき液:微細配線・パンプ用無光沢硫酸銅(XP-CS)
  • その他:筆めっき用にリード線付き筆具(筆先カーボン)あり

 

F-AT-113

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